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晶圆清洗机厂家介绍晶圆清洗技术(五)
3.1.1 RCA清洗法
晶圆清洗机厂家介绍蕞初,人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年, RCA(美国无线电公司)研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法,并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础,以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于蕞初的RCA清洗法。
晶圆清洗机厂家介绍RCA清洗法依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有`机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水(UPW)中彻底清洗。以下是常用清洗液及作用。
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