晶片清洗机厂家介绍单晶片清洗（二）

晶片清洗机厂家介绍单晶片清洗（二）

根据蚀刻和氧化的要求采用较短的喷淋时间就可获得好的清洗效·果，不会发生交叉污染。蕞后冲洗不是采用DI水就是采用臭氧化DI水。晶片清洗机厂家介绍为了避免水渍，采用浓缩大量氮气的异丙基乙醇（IPA）进行干燥处理。单晶片清洗具有或者比改良的RCA清洗更好的清洗效·果，清洗过程中通过采用DI水及HF的再循环利用，降·低化学品的消耗量，提高晶片成本效益。

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