晶圆清洗机厂家介绍晶圆清洗技术（四）

晶圆清洗机厂家介绍晶圆清洗技术（四）

2.4 原生氧化物及化学氧化物 

晶圆清洗机厂家硅原子非·常容易在含氧气及水的环境下氧化形成氧化层，称为原生氧化层。硅晶圆经过SC-1和SC-2溶液清洗后，由于双氧水的强氧化力，在晶圆表面上会生成一层化学氧化层。为了确保闸极氧化层的品质，此表面氧化层必须在晶圆清洗过后加以去除。另外，在IC制程中采用化学汽相沉积法（CVD）沉积的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相应的清洗过程中有选择的去除。

3清洗方法分类

3.1 湿法清洗

晶圆清洗机厂家湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有`机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等.　

芯矽科技是一家高新技术企业、专·业半导体湿法设备制造公司，主要提供实验室研发级到全自动量产级槽式清洗机，单片清洗机，硅片清洗机   自动湿法清洗台   晶片清洗机   晶圆清洗机   湿法腐蚀机   SC-2清洗机   碱液清洗机   RCA清洗机   去胶清洗机   酸洗清洗机。高纯化学品/研磨液供应回收系统及工程，公司核心产品12寸全自动晶圆化学镀设备，12寸全自动炉管/ Boat /石英清洗机已占据行业领·先地位，已经成功取得长江存储 ，中芯国·际，重庆华润，上海华虹，上海积塔，上海格科，广东粤芯，青岛芯恩，厦门士兰，南通捷捷，湖南楚微等主流8寸12寸Fab产线订单，我们致力于为合作伙伴提供蕞佳的工艺及设备解决方案。