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硅片热氧化为什么需要很高的温度

发布日期:2021-09-09 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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            硅片热氧化为什么需要很高的温度

硅片清洗机】中硅片热处理意义:

    ①热处理温度要求:650±5℃

    ②热处理目的:还原直拉单晶硅片真实电阻率;

 1、热处理后电阻率会有什么变化 由于氧是在大约1400℃引入硅单晶的,所以在一般器件制造过程的温度范围(≤1200℃)

硅片



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