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苏州芯矽电子科技有限公司
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【晶片清洗机】的设备配套条件要求
1. 摆放环境：千级净化车间；
2. 净化水（超纯水）：电阻率≥17.5MΩ/cm（25℃），流量≥1.5m3/ H，；
3. 压缩空气：压力≥0.6MPa，流量≥1.0m3/ min；
4. 氮气：纯度≥99.5%，压力≥0.5MPa，流量≥0.5m3/ min；
5. 电源要求：380VAC±10%，3P5W，50Hz；
