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全自动槽式清洗机的特点及用途

发布日期:2023-08-04 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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全自动槽式清洗机的特点及用途1


       全自动槽式清洗机广泛应用于集成电路、MEMS和光伏领域的CMP后清洗工艺。该清洗机可对晶圆片表面、背面、边缘进行清洁。自主创新的兆声清洗技术可以去除附着在晶圆表面的细颗粒污染物,实现去除。可提供多罐化工液体或纯水,结合喷涂、溢流、快速清洗等清洗方式,配合先进的IPA干燥方式,可同时对应25或50件进行工艺处理。



      产品特点


智能、精准的传动控制系统


自动化学品集中供液系统(CDS)


溢液设计,减少液量,降低使用成本


清洗效果强,清洗率≥99%


可扩展多组合清洗工艺


颗粒控制能力,≥0.1μm的颗粒小于15个


药液罐采用双罐设计,可实现准确控温,防止药液泄漏


废液排气独立控制,有效保护人员操作



      应用领域


      集成电路、微机电系统、光伏等


自动湿法清洗台


芯矽科技是一家高新技术企业、专·业半导体湿法设备制造公司,主要提供实验室研发级到全自动量产级槽式清洗机,单片清洗机,硅片清洗机  自动湿法清洗台   晶片清洗机   晶圆清洗机   湿法腐蚀机   SC-2清洗机   碱液清洗机   RCA清洗机   去胶清洗机   酸洗清洗机。高纯化学品/研磨液供应回收系统及工程,公司核心产品12寸全自动晶圆化学镀设备,12寸全自动炉管/ Boat /石英清洗机已占据行业领·先地位,已经成功取得长江存储 ,中芯国·际,重庆华润,上海华虹,上海积塔,上海格科,广东粤芯,青岛芯恩,厦门士兰,南通捷捷,湖南楚微等主流8寸12寸Fab产线订单,我们致力于为合作伙伴提供蕞佳的工艺及设备解决方案。

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