湿法清洗用的什么水

说到湿法清洗，那么必须离不开的是水。到底用什么水，哪个水能洗干净呢？为此，我们今天就来给大家说说湿法清洗所用到的水及其相关介绍：

去离子水（DI Water）

特性与制备：去离子水是通过离子交换树脂等方法去除水中的阴阳离子，使其电阻率达到一定高度的水。在半导体制造中，对去离子水的纯度要求极高，其电阻率通常需达到 18 MΩ·cm 以上，几乎不导电，以避免在清洗过程中引入额外的杂质离子而污染晶圆。

应用场景：在湿法清洗的各个阶段都有应用。可用于预清洗，去除晶圆表面的一些颗粒杂质；在化学清洗后，用大量的去离子水进行冲洗，以去除残留的化学试剂；也可作为最后的漂洗水，去除前一道清洗工序中可能引入的新杂质，确保晶圆表面干净。例如在 RCA 清洗工艺中，每次使用化学试剂后都需要用超纯水彻底冲洗。

超纯水（UPW）

特性与制备：超纯水是在去离子水的基础上进一步处理得到的，不仅去除了离子，还通过紫外线照射、反渗透、终端抛光混床等深度净化工艺，进一步降低了水中的有机物、细菌、颗粒等杂质的含量，使其水质达到极高的纯度和洁净度。

应用场景：主要用于对水质要求极高的场合，如半导体制造中的光刻、蚀刻等关键工艺前后的晶圆清洗，以及高精度的半导体设备的清洗和维护，能有效防止微小杂质对半导体器件性能的影响，提高产品的良率和可靠性。

含添加剂的去离子水

特性与制备：为了满足特定的清洗需求，有时会在去离子水中添加适量的添加剂。例如，为了增强清洗液的导电性而又不污染晶圆，会在 DIW 中混入二氧化碳气体（CO₂）或氨气气体（NH₃）。

应用场景：在一些先进的半导体制造工艺节点中，由于单晶圆清洗方式较为普遍，晶圆在清洗过程中会产生静电，而静电可能会引起缺陷甚至导致器件失效。此时，添加了 CO₂或 NH₃的去离子水可以在不污染晶圆的前提下增加导电性，释放静电，从而提高清洗效果和产品质量。