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晶片清洗机的设备配套条件要求

发布日期: 2020-05-21

晶片清洗机】的设备配套条件要求

1.  摆放环境:千级净化车间;

2.  净化水(超纯水):电阻率≥17.5MΩ/cm(25℃),流量≥1.5m3/ H,;

3.   压缩空气:压力≥0.6MPa,流量≥1.0m3/ min;

4.   氮气:纯度≥99.5%,压力≥0.5MPa,流量≥0.5m3/ min;

5.   电源要求:380VAC±10%,3P5W,50Hz;






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