苏州芯矽电子科技有限公司
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硅片清洗机的应用范围
1、硅片清洗机的炉前清洗:扩散前清洗。
2、硅片清洗机的光刻后清洗:除去光刻胶。
3、硅片清洗机的氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
4、硅片清洗机的抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。
5、硅片清洗机的外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
6、硅片清洗机的合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。
7、硅片清洗机的离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。
8、硅片清洗机的扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。
9、硅片清洗机的CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。
10、硅片清洗机的附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物
苏州芯矽电子科技有限公司专.业生产硅片清洗机,自动湿法清洗台,晶片清洗机,晶圆清洗机,SC-1清洗机,SC-2清洗机,碱液清洗机,RCA清洗机,去胶清洗机,酸洗清洗机,单片清洗机,扩散前清洗机,外延备件清洗机,全自动去胶清洗机,石英部件清洗机,芯片扩散清洗机,花篮片盒清洗机,硫酸双氧水清洗机,全自动硅料清洗机,芯片备件清洗机,全自动去PSG清洗机,PSS衬底(SPM)清洗机,全自动去胶清洗机,湿法腐蚀机,胶盘清洗机,半自动腐蚀机,去胶清洗机,纯水在线加热系统,自动去胶清洗机,自H2O2 20L供应设备,研磨原液供给装置,硫酸去胶清洗机,Parts Cleaner清洗设备,BOE腐蚀机,化学蚀刻机,石英基片清洗机,充填清洗设备,半自动酸洗机,半自动有.机清洗机,手动酸碱蚀刻台,自动酸碱蚀刻台,兆声清洗,湿法腐蚀,防罩板清洗,金属有.机剥离清洗机。专.业提供半导体湿制程设备和工艺客制化解决方案!欢迎新老客户来电咨询!