苏州芯矽电子科技有限公司
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超声波清洗机能清洗硅片??
2、硅片晶圆生产清洗工艺中,使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有.机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石度英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性知。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合。
3、硅片的清洗在半导体制作过程中道很重要,而磨片的清洗是所有清洗工序中zui困难的。由于使用了版硅片超声波清洗机,通过物理渗透作用,使污染颗粒脱离硅片表面,再通过超声波清洗的机械作用和权化学腐蚀作用,终去除污染颗粒,达到了清洗硅片的目的。
苏州芯矽电子科技有限公司专.业生产硅片清洗机,自动湿法清洗台,晶片清洗机,晶圆清洗机,SC-1清洗机,SC-2清洗机,碱液清洗机,RCA清洗机,去胶清洗机,酸洗清洗机,单片清洗机,扩散前清洗机,外延备件清洗机,全自动去胶清洗机,石英部件清洗机,芯片扩散清洗机,花篮片盒清洗机,硫酸双氧水清洗机,全自动硅料清洗机,芯片备件清洗机,全自动去PSG清洗机,PSS衬底(SPM)清洗机,全自动去胶清洗机,湿法腐蚀机,胶盘清洗机,半自动腐蚀机,去胶清洗机,纯水在线加热系统,自动去胶清洗机,自H2O2 20L供应设备,研磨原液供给装置,硫酸去胶清洗机,Parts Cleaner清洗设备,BOE腐蚀机,化学蚀刻机,石英基片清洗机,充填清洗设备,半自动酸洗机,半自动有.机清洗机,手动酸碱蚀刻台,自动酸碱蚀刻台,兆声清洗,湿法腐蚀,防罩板清洗,金属有.机剥离清洗机。专.业提供半导体湿制程设备和工艺客制化解决方案!欢迎新老客户来电咨询!