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用超纯水清洗【硅片清洗机】中硅片的原因

发布日期:2021-08-17 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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                        用超纯水清洗【硅片清洗机】中硅片的原因

1.   硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗,清洗的目的在于消灭表面污染杂质,包括有机物和无机物,否则微量污染也会导致器件失效

2.   超纯水开始是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。


3.   硅片清洗对水质要求很高,电阻率达18兆以上,而超纯水是首选。超纯水是一般工艺很难达到的程度,水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎都去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除到很低程度的水处理设备。

硅片



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