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硅片热氧化为什么需要很高的温度

发布日期：2020-11-23 内容来源于：http://www.szsi-tech.com.cn/

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硅片热氧化为什么需要很高的温度

【硅片清洗机】中硅片抄热处理意义：

①热处理温度要求：650±5℃

②热处理目的：还原直拉单晶硅片百真实电阻率；

1、热处度理后电阻率会有什么变化由于氧是在知大约1400℃引入硅单晶的，所以在一般器件制造过程的温道度范围（≤1200℃）

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