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硅片清洗机中清洗硅片的顺序

发布日期:2020-05-04 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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硅片清洗机】中清洗硅片的顺序

硅片表面残留颗粒的等离子体清洗方法,它包括以下步骤:

一:进行气体冲洗流程,然后进行该气体等离子体启辉。

二:去除硅片表面颗粒的等离子体清洗方法过程控制容易,清洗彻底,无反应物残留,所霈工艺气体无毒,成本低,劳动量小,工作效率高。

硅片


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