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精于湿法,成于交付!祝贺芯矽科技光波导清洗项目全自动清洗线顺利出货

发布日期: 2026-11-09

近日,芯矽科技光波导清洗项目全自动清洗线完成整线装配与调试,正式顺利出货。本次交付覆盖有机去胶与刻蚀两大核心工艺段,将奔赴客户现场投入光波导清洗产线建设。

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有机去胶段

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全自动有机去胶清洗

刻蚀段

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全自动刻蚀清洗机 


光波导清洗对表面洁净度、颗粒残留与药液均匀性要求严苛,湿法工艺的稳定性直接决定后段良率。此次出货的整线方案以全自动有机去胶与刻蚀清洗机为主体,配套CDS集中供液系统实现药液输送的精准与稳定,马兰戈尼干燥单元兼顾干燥效率与表面无水痕,纯水加热单元则从源头保障清洗用水的温度一致性。各单元模块化设计、协同联动,在提升清洗一致性的同时降低人工干预。


从方案设计、装配集成到整线调试,每一道环节都围绕"交付即稳定运行"展开。设备出厂不是终点,而是产线价值兑现的起点。


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